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磁控溅射
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磁控溅射
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磁控溅射
磁控溅射的数值仿真设计
2022-11-21
磁控溅射的数值仿真设计将工程和工艺设计运用计算机模拟,再现溅射沉积过程,并将设计的结果进行显示和分析以优化工程和工艺设计。工程设计可以实现参数化设计:利用已有的商业软件:Pro/E,UG,Ansys等进行二次开发。工艺设计是在自行设计或利用
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磁控溅射的镀膜过程
2022-11-21
磁控溅射的镀膜过程有哪些?气体放电:辉光放电产生等离子体,使工作气体离化,产生阳离子,在电场作用下轰击阴,并伴有二次电子发射等现象出现。对辉光放电等离子体的研究是研究溅射沉积过程的必由之路。溅射碰撞:溅射碰撞一般是研究带电荷能离子与靶材表层
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磁控溅射的镀膜原理
2022-10-28
磁控溅射的镀膜原理磁控溅射镀膜技术分很多种,有直流磁控溅射,中频磁控溅射,射频磁控溅射,镀的基材和膜层不一样,才用的原理不一样,选择的技术有区别。采用中频溅射的优点是可得到光滑致密、膜层硬度高、膜厚可线性长、温升缓和的产品。但要求较高,工作
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磁控溅射的种类有哪些
2022-10-28
磁控溅射包含许多种类。各有不同工作原理和使用对象。但有总共同点:使用磁场与电场交互作用,使电子在靶外表邻近成螺旋状运转,然后电子碰击氩气发生离子的概率。所发生的离子在电场作用下撞向靶面然后溅射出靶材。磁控溅射靶源分平衡式和非平衡式,平衡式靶
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磁控溅射的维护方法
2022-09-16
对于磁控溅射来说,做好相关的维护工作是非常重要的,那么磁控溅射如何做好维护工作呢?1,根据自动磁控溅射运行状态的需要,对自动磁控溅射进行动态管理,确保能够满足磁控溅射的需要。特别要注意自动磁控溅射和进口设备的一些特殊配件,因为它们的交货周期
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磁控溅射的常见故障及解决办法
2022-09-16
磁控溅射是物理气相堆积的一种,磁控溅射通过在靶阴极外表引入磁场,使用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。磁控溅射工艺在日常操作过程中有哪些常见的毛病呢?磁控溅射常见毛病及解决办法1.无法起辉(1)直流电源毛病,查看直流电源;
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